Extrém ultraibolya litográfia (EUVL) – Jelentés

Extrém ultraibolya litográfia (EUVL) egy 13.5 nm-es fényforrást használó fejlett technológia, és a 22 nm-es csomópont vezető jelöltje litográfia és tovább. EUV litográfia jelenleg a kísérleti fázisban van a 0.33-NA szerszámokkal a chipgyártó telephelyeken. A tömeggyártás a közeljövőben várható.

EUV – Technológiai frissítések

Többszörös mintázás
Atomic Layer Deposition (ALD)
Pellicle
Szinkronizált High NA
High-NA platform, az úgynevezett „EXE

EUV Litográfia: Mi a következő lépés?

Az EUVL kihívása – az EUV sugárzás erős elnyelése minden anyagban. Az EUV védőrétegek úgy vannak kialakítva, hogy a nyomtatás egy nagyon vékony képalkotó rétegben történik a védőréteg felületén. Ezenkívül az EUV ellenálló anyagoknak a fényforrás-technológia közelgő fejlődésével együtt kell fejlődniük.

A TTC-ről
Folyamatosan felismertük az új technológia értékét, amelyet a mi szakembereinknek megfelelő háttérrel rendelkező, meglehetősen képzett vezetői csapatunk végez. Az általunk felhatalmazott IP-szakértőkhöz hasonlóan a fejlődés iránti éhezésünk is véget nem ér. Stratégiai módon IMPROVIZÁLJUK, ALKALMAZHATJUK ÉS MEGVALÓSÍTJUK.

Te is tudod Kapcsolatfelvétel konzultáció létrehozásához.

TT tanácsadók hatékony, kiváló minőségű megoldások széles skáláját kínálja a szellemi tulajdon kezeléséhez, kezdve a Szabadalmazhatóság keresése, Érvénytelenítési keresés, FTO (Freedom to Operation), Szabadalmi portfólió optimalizálása, Szabadalmi felügyelet, Jogsértési keresés, Szabadalmi rajzok és illusztrációk, és még sok más. Ügyvédi irodák és vállalatok számára számos iparágban kínálunk kulcsrakész megoldásokat.